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a-C:H 膜在不同真空度下的摩擦学行为研究 期刊论文
功能材料, 2012, 卷号: 43, 期号: 3, 页码: 313-316
Authors:  吴艳霞;  李红轩;  吉利;  冶银平;  孙晓军;  陈建敏;  周惠娣
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磁控溅射  A-c∶h 膜  真空度  摩擦学性能  Magnetron Sputtering  A-c∶h Film  Vacuum Degree  Tribological Property  
Fabrication of Transparent Superhydrophilic TiO2 Nanofilm without UV-irradiation 期刊论文
Rare Metal Materials and Engineering, 2012, 卷号: 41, 期号: 增刊:1, 页码: 263-267
Authors:  Du W(杜雯);  Ye YP(冶银平);  Li HX(李红轩);  Zhao F(赵飞);  Ji L(吉利);  Quan WL(权伟龙);  Chen JM(陈建敏);  Zhou HD(周惠娣);  Chen JM(陈建敏)
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Superhydrophilicity  Transparent  Tio2 Nanofilms  Magnetron Sputtering  Annealing Treatment  
Effect of Ti Incorporation on the Microstructure and Properties of the a-C:H Films Deposited by Magnetron Sputtering Technique 期刊论文
Rare Metal Materials and Engineering, 2012, 卷号: 41, 期号: 增刊:1, 页码: 366-370
Authors:  Wang YX(王永霞);  Ye YP(冶银平);  Li HX(李红轩);  Ji L(吉利);  Wang YJ(王永军);  Wu YX(吴艳霞);  Liu XH(刘晓红);  Chen JM(陈建敏);  Zhou HD(周惠娣);  Ye YP(冶银平)
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(Ti)/a-c:h Film  Magnetron Sputtering  Annealing  Microstructure  Tribological Properties  
真空中不同转速和对偶对a-C:H膜摩擦学性能的影响 期刊论文
中国表面工程, 2012, 卷号: 25, 期号: 6, 页码: 90-95
Authors:  吴艳霞;  李红轩;  吉利;  冶银平;  孙晓军;  陈建敏;  周惠娣
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非晶碳氢膜  掺杂膜  对偶  转速  Amorphous Hydrogenated Carbon  Counterpartball  Rotating Speed  
Low temperature preparation of transparent, antireflective TiO2 films deposited at different O-2/Ar ratios by microwave electron cyclotron resonance magnetron sputtering 期刊论文
Vacuum, 2012, 卷号: 86, 期号: 9, 页码: 1387-1392
Authors:  Du W(杜雯);  Ye YP(冶银平);  Li HX(李红轩);  Zhao F(赵飞);  Ji L(吉利);  Quan WL(权伟龙);  Chen JM(陈建敏);  Zhou HD(周惠娣);  Chen JM(陈建敏)
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Titanium Oxide Thin Film  Mw-ecr  O-2/ar Ratio  Antireflection  
Microstructure and tribological properties of the a-C:H films deposited by magnetron sputtering with CH4 /Ar mixture 期刊论文
Surface and Coatings Technology, 2011, 卷号: 205, 页码: 4577-4581
Authors:  Wang YX(王永霞);  Ye YP(冶银平);  Li HX(李红轩);  Ji L(吉利);  Wang YJ(王永军);  Liu XJ(刘晓军);  Chen JM(陈建敏);  Zhou HD(周惠娣)
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A-c:h FIlm  Magnetron Sputtering  Microstructure  Tribological Property  
A magnetron sputtering technique to prepare a-C:H films: Effect of substrate bias 期刊论文
Applied Surface Science, 2011, 卷号: 257, 页码: 1990-1995
Authors:  Wang YX(王永霞);  Ye YP(冶银平);  Li HX(李红轩);  Ji L(吉利);  Chen JM(陈建敏);  Zhou HD(周惠娣)
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A-c:h FIlm  Magnetron Sputtering  Substrate Bias  Microstructure  Tribological Property  
退火温度对 a-C:H 膜结构及摩擦学性能的影响 期刊论文
无机材料学报, 2011, 卷号: 26, 期号: 2, 页码: 209-214
Authors:  王永霞;  冶银平;  李红轩;  吉利;  陈建敏;  周惠娣
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A-c:h 膜  退火温度  结构  摩擦学性能  A-c:h Film  Annealing Temperature  Structure  Tribological Property  
TiO2纳米薄膜的制备及其紫外-可见光谱研究 期刊论文
材料工程, 2008, 期号: 10, 页码: 261-264
Authors:  杜雯;  冶银平;  李红轩;  崔海霞
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磁控溅射  Tio2纳米薄膜  紫外-可见光谱  禁带宽度  Magnetron Sputtering  Anatase Tio2 Nanofilms  Uv-vis Spectrum  Optical Energy Band Gap