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Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响 期刊论文
功能材料, 2013, 卷号: 44, 期号: 1, 页码: 32-35
Authors:  吴劲峰;  何乃如;  邱孟柯;  吉利;  李红轩;  黄小鹏
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磁控溅射  Tialn 薄膜  N2 流量  微观结构  硬度  Magnetron Sputtering  Tialn Films  Nitrogen Flow  Microstructure  Hardness  
中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究 期刊论文
摩擦学学报, 2013, 卷号: 33, 期号: 5, 页码: 507-513
Authors:  徐书生;  高晓明;  胡明;  孙嘉奕;  翁立军;  刘维民
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中频磁控溅射  Wsx薄膜  S/w原子比  摩擦磨损  Medium Frequency Magnetron Sputtering  Wsx Film  S/w Ratio  Friction And Wear