| Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响 | |
| Department | 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
吴劲峰; 何乃如 ; 邱孟柯; 吉利; 李红轩; 黄小鹏
| |
| The second department | 固体润滑国家重点实验室 |
| 2013 | |
| Source Publication | 功能材料
 |
| ISSN | 1001-9731 |
| Volume | 44Issue:1Pages:32-35 |
| Abstract | 采用非平衡磁控溅射技术在ＡＩＳＩ２０２不锈钢片和Ｐ（１１１）单晶硅基底上制备了ＴｉＡｌＮ薄膜，并利用场发射扫描电镜（ＦＥＳＥＭ）、三维轮廓仪、Ｘ射线衍射仪（ＸＲＤ）、Ｘ射线电子能谱仪（ＸＰＳ）、纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了考查。结果表明，随着Ｎ２流量的升高，ＴｉＡｌＮ薄膜的沉积速率降低，Ａｌ／Ｔｉ比率先升高后迅速降低；薄膜主要由ＴｉＮ 立方晶构成，且随Ｎ２流量的升高晶粒尺寸减小，柱状晶结构变疏松。在氮气流量为２０ｍＬ／ｍｉｎ时，薄膜具有最高的硬度及结合力。 |
| Keyword | 磁控溅射 Tialn 薄膜 N2 流量 微观结构 硬度 Magnetron Sputtering Tialn Films Nitrogen Flow Microstructure Hardness |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Funding Organization | 国家自然科学基金资助项目(51065001) |
| Indexed By | EI&CSCD |
| If | 0.5791(CSCD-JCR) |
| Language | 中文 |
| Funding Project | 磨损与表面工程课题组 |
| compositor | 第二作者单位 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/4596 |
| Collection | 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 固体润滑国家重点实验室（LSL） |
| Corresponding Author | 吴劲峰 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 吴劲峰,何乃如,邱孟柯,等. Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响[J]. 功能材料,2013,44(1):32-35. |
| APA | 吴劲峰,何乃如,邱孟柯,吉利,李红轩,&黄小鹏.(2013).Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响.功能材料,44(1),32-35. |
| MLA | 吴劲峰,et al."Ｎ2 流量对中频非平衡磁控溅射ＴｉＡｌＮ薄膜结构及性能的影响".功能材料 44.1(2013):32-35. |
| Files in This Item: | ||||||
| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| N_2流量对中频非平衡磁控溅射TiAlN（880KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment