| 中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究 | |
| Department | 固体润滑国家重点实验室 |
徐书生 ; 高晓明; 胡明; 孙嘉奕; 翁立军; 刘维民
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| The second department | 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| 2013 | |
| Source Publication | 摩擦学学报
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| ISSN | 1004-0595 |
| Volume | 33Issue:5Pages:507-513 |
| Abstract | 采用中频磁控溅射制备了ＷＳｘ薄膜，通过Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、场发射扫描电子显微镜（ＦＥＳＥＭ）、原子力显微镜（ＡＦＭ）和Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）对其结构进行了分析，采用纳米压入仪（Ｔｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒ）和真空球－盘摩擦试验机分别考察了薄膜的力学性能和摩擦磨损性能．结果表明：改变溅射功率密度和气压，将引起选择性溅射与薄膜氧化程度的变化，致使薄膜Ｓ/Ｗ原子比随之变化，薄膜的Ｓ/Ｗ 原子比随着溅射功率密度的增加先减小后增大，而随着溅射气压的增大逐渐增大．薄膜Ｓ/Ｗ原子比较低时，薄膜Ｗ含量较高，薄膜结构较致密、硬度较高，但摩擦系数较大、耐磨性能较差；随着Ｓ/Ｗ原子比的增大，薄膜中ＷＳ２含量显著增加，Ｗ 含量明显下降，摩擦系数降低，耐磨性能明显改善． |
| Keyword | 中频磁控溅射 Wsx薄膜 S/w原子比 摩擦磨损 Medium Frequency Magnetron Sputtering Wsx Film S/w Ratio Friction And Wear |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Funding Organization | 国家重点基础研究发展规划项目(973)(2013CB632300) |
| Indexed By | EI&CSCD |
| If | 0.6546(CSCD-JCR) |
| Language | 中文 |
| Funding Project | 空间润滑材料组；PVD润滑薄膜组 |
| compositor | 第一作者单位 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/4842 |
| Collection | 固体润滑国家重点实验室（LSL） 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| Corresponding Author | 翁立军; 刘维民 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 徐书生,高晓明,胡明,等. 中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究[J]. 摩擦学学报,2013,33(5):507-513. |
| APA | 徐书生,高晓明,胡明,孙嘉奕,翁立军,&刘维民.(2013).中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究.摩擦学学报,33(5),507-513. |
| MLA | 徐书生,et al."中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究".摩擦学学报 33.5(2013):507-513. |
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| 中频磁控溅射制备不同S_W原子比WS_s（869KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | |
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