| 基体偏压对反应磁控溅射ZrN/α-SiNx纳米多层薄膜结构及性能的影响 | |
| Department | 固体润滑国家重点实验室 |
胡明 ; 高晓明; 张立平; 伏彦龙; 杨军; 翁立军; 刘维民
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| The second department | 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| 2013 | |
| Source Publication | 摩擦学学报
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| ISSN | 1004-0595 |
| Volume | 33Issue:1Pages:29-35 |
| Abstract | 采用中频磁控溅射技术在３种偏压条件下（０、－８０、－３００Ｖ）于ＡＩＳＩ４４０Ｃ钢及单晶Ｓｉ（１００）基体表面制备了ＺｒＮ／α－ＳｉＮｘ纳米多层薄膜．通过高分辨透射电子显微镜（ＨＲＴＥＭ）分析表征了各纳米多层薄膜微观组织结构，并通过纳米压入仪与真空球－盘摩擦试验机分别测试了各薄膜力学及真空摩擦学性能．重点研究了基体偏压对ＺｒＮ／α－ＳｉＮｘ纳米多层薄膜微观组织结构，进而对其力学及摩擦学性能的影响机制．结果表明：较低的基体偏压会导致纳米多层薄膜中ＺｒＮ层差的结晶状态，而较高的基体偏压则易于引起ＺｒＮ层与ＳｉＮｘ层层间界面的交混．上述两种薄膜组织及结构的变化均不利于该纳米多层薄膜力学及摩擦学性能的改善．在适宜的偏压条件下（－８０Ｖ），ＺｒＮ／α－ＳｉＮｘ薄膜呈现出具备良好层间界面的晶体／非晶体纳米多层结构，与其他偏压条件制备的纳米多层薄膜相比，该薄膜表现出更好的力学及摩擦学性能． |
| Keyword | Zrn/α-sinx纳米多层薄膜 基体偏压 微观结构 机械及摩擦学性能 Zrn/α-sinx Nanoscaled Multilayer Films Bias Voltage Mirostructure Mechanical And Tribological Properties |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Indexed By | EI&CSCD |
| If | 0.6546(CSCD-JCR) |
| Language | 中文 |
| Funding Project | PVD润滑薄膜组;高温抗磨材料组;空间润滑材料组 |
| compositor | 第一作者单位 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/4650 |
| Collection | 固体润滑国家重点实验室（LSL） 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| Corresponding Author | 刘维民 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 胡明,高晓明,张立平,等. 基体偏压对反应磁控溅射ZrN/α-SiNx纳米多层薄膜结构及性能的影响[J]. 摩擦学学报,2013,33(1):29-35. |
| APA | 胡明.,高晓明.,张立平.,伏彦龙.,杨军.,...&刘维民.(2013).基体偏压对反应磁控溅射ZrN/α-SiNx纳米多层薄膜结构及性能的影响.摩擦学学报,33(1),29-35. |
| MLA | 胡明,et al."基体偏压对反应磁控溅射ZrN/α-SiNx纳米多层薄膜结构及性能的影响".摩擦学学报 33.1(2013):29-35. |
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| 基体偏压对反应磁控溅射ZrN__i_α_（950KB） | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | |
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