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超低摩擦硅铝二元掺杂非晶碳薄膜的制备方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: 201110425150.3, 申请日期: 2015-07-08, 公开日期: 2013-06-19
Inventors:  郝俊英;  刘小强
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纳米复合含氢非晶碳薄膜的制备、结构与性能研究 学位论文
: 中国科学院大学, 2013
Authors:  刘小强
Adobe PDF(5188Kb)  |  Favorite  |  View/Download：443/1  |  Submit date：2014/04/30
磁控溅射  含氢非晶碳薄膜  掺杂技术  纳米结构  超低摩擦  Magnetron Sputtering  Hydrogneated Amorphous Carbon Film  Doping Technique  Nanostructure  Superlow Friction