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一种石墨烯靶材的制备及其在磁控溅射沉积低摩擦碳薄膜中的应用 专利
专利号: 202110844040.4, 申请日期: 2022-01-01,
Inventors:  张斌;  贾倩;  张俊彦
Adobe PDF(98Kb)  |  Favorite  |  View/Download:59/0  |  Submit date:2023/01/19