| 一种石墨烯靶材的制备及其在磁控溅射沉积低摩擦碳薄膜中的应用 | |
张斌 ; 贾倩; 张俊彦
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| 2022 | |
| Rights Holder | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| Country | 中国 |
| Department | 固体润滑国家重点实验室 |
| The second department | 607组 |
| Application Date | 2021 |
| Patent Number | 202110844040.4 |
| Language | 中文 |
| Status | 已授权 |
| Application Number | CN202110844040.4 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/30003 |
| Collection | 固体润滑国家重点实验室（LSL） |
| Affiliation | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 张斌,贾倩,张俊彦. 一种石墨烯靶材的制备及其在磁控溅射沉积低摩擦碳薄膜中的应用. 202110844040.4[P]. 2022-01-01. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 一种石墨烯靶材的制备及其在磁控溅射沉积低（98KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | ||
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