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中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究 期刊论文
摩擦学学报, 2013, 卷号: 33, 期号: 5, 页码: 507-513
Authors:  徐书生;  高晓明;  胡明;  孙嘉奕;  翁立军;  刘维民
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中频磁控溅射  Wsx薄膜  S/w原子比  摩擦磨损  Medium Frequency Magnetron Sputtering  Wsx Film  S/w Ratio  Friction And Wear  
氮化铬硬质膜的制备及其性能研究 学位论文
: 中国科学院研究生院, 2011
Authors:  孔庆花
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Crnx薄膜  中频脉冲磁控溅射  工艺参数  微观结构  摩擦学性能  Crnx Films  Medium Frequency Pulse Magnetron Sputtering  Deposition Parameters  Microstructure  Tribological Properties  
Composition, microstructure, and properties of CrNx films deposited using medium frequency magnetron sputtering 期刊论文
Applied Surface Science, 2011, 卷号: 257, 期号: 无期, 页码: 2269-2274
Authors:  Kong QH(孔庆花);  Ji L(吉利);  Li HX(李红轩);  Liu XH(刘晓红);  Wang YJ(王永军);  Chen JM(陈建敏);  Zhou HD(周惠娣)
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Crnx FIlms  Medium Frequency Magnetron Sputtering  N2 Content  Microstructure  Mechanical Properties  Tribological Properties