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金属离子注入改性非晶碳膜的制备方法 专利
专利类型: 发明, 专利号: 01143088.5, 申请日期: 2004-09-29, 公开日期: 2002-08-14
Inventors:  阎逢元;  韩修训;  张爱民;  刘维民
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非晶碳膜的PVD法制备、离子注入改性及其摩擦学性能研究 学位论文
: 中国科学院兰州化学物理研究所, 2002
Authors:  韩修训
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非晶碳膜  摩擦学性能  直流磁控溅射  离子注入  Amorphous Carbon Films  Tribological Performance  Direct-current Magnetron Sputtering  Ion implantatIon