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具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: ZL201510708221.9, 申请日期: 2018-06-29,
Inventors:  张斌;  张俊彦;  高凯雄;  强力;  王健
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阳极场辅磁控溅射镀膜装置 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: ZL201510704469.8, 申请日期: 2018-06-12,
Inventors:  张斌;  张俊彦;  高凯雄;  强力;  王健
Adobe PDF(89Kb)  |  Favorite  |  View/Download:41/0  |  Submit date:2018/11/27
反应磁控溅射制备AlN薄膜及其耐腐蚀性能研究 学位论文
工学硕士, 北京: 中国科学院大学, 2018
Authors:  王雄伟
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反应磁控溅射  AlN薄膜  腐蚀  极化曲线  电化学阻抗谱  Reactive magnetron sputtering  AlN film  Corrosion  Polarization curve  Electrochemical impedance spectroscopy