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多晶X射线衍射-光催化联用原位表征分析系统(实用新型) 专利
专利类型: 实用新型, 专利号: 201520156695.2, 申请日期: 2015-07-01, 公开日期: 2015-07-01
Inventors:  何荔;  毕迎普;  杨培菊;  任伟;  焦正波;  牛建中
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基于石墨烯为电荷转移基质的高效可见光光催化制氢催化剂的研究 学位论文
, 北京: 中国科学院大学, 2015
Authors:  孔超
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石墨烯  染料敏化  光催化制氢  Graphene  Dye-sensitization  Photocatalytic Hydrogen Production