一种石墨烯靶材的制备及其在磁控溅射沉积低摩擦碳薄膜中的应用 | |
张斌; 贾倩; 张俊彦 | |
2022 | |
Rights Holder | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
Country | 中国 |
Department | 固体润滑国家重点实验室 |
The second department | 607组 |
Application Date | 2021 |
Patent Number | 202110844040.4 |
Language | 中文 |
Status | 已授权 |
Application Number | CN202110844040.4 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/30003 |
Collection | 固体润滑国家重点实验室(LSL) |
Affiliation | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 张斌,贾倩,张俊彦. 一种石墨烯靶材的制备及其在磁控溅射沉积低摩擦碳薄膜中的应用. 202110844040.4[P]. 2022-01-01. |
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一种石墨烯靶材的制备及其在磁控溅射沉积低(98KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text |
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