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阳极场辅磁控溅射镀膜装置 专利
专利类型: 发明专利, 专利号: ZL201510704469.8, 申请日期: 2018-06-12,
Inventors:  张斌;  张俊彦;  高凯雄;  强力;  王健
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B4C薄膜在高湿度环境下的摩擦学性能与润滑机理研究 学位论文
工学博士, 北京: 中国科学院大学, 2018
Authors:  曹学乾
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碳化硼薄膜，纳米水层，摩擦化学产物，硼酸，硅胶