| 离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究 | |
| Department | 非现建制 |
庄大明; 刘家浚; 朱宝亮; 李文治; 张绪寿; 杨生荣
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| 1995 | |
| Source Publication | 摩擦学学报
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| ISSN | 1004-0595 |
| Volume | 15Issue:4Pages:341-347 |
| Abstract | 在离子束增强沉积的Si3N4膜和TiN膜的表面，分别利用离子束增强沉积法和磁控溅射法制取了MoSx薄膜．在SRV摩擦磨损试验机上，对几种薄膜试样与52100钢试样作了对比试验研究，结果表明，两种MoSx薄膜都具有良好的摩擦磨损性能．其中，磁控溅射MoSx膜的减摩性能更好，而减摩持久性则是以离子束增强沉积MoSx膜的更好；两种MoSx膜的耐磨性比Si3N4膜和TiN膜的高3-4倍，比52100钢的高8-20倍．两种MoSx薄膜显示出不同的减摩性能和耐磨寿命，主要原因在于MoSx溅射膜中的x值(x＜2)不同，以及膜的微观结构和界面成分的混合状态不同． |
| Keyword | 离子束增强沉积 磁控溅射 Mos2薄膜 减摩性 耐磨性 Ion Beam Enhanced depositIon Magnetron Sputtering Mos2 Thin Film Friction Reduction Wear-resistance |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Funding Organization | 国家自然科学基金资助项目 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/7387 |
| Collection | 非现建制 |
| Corresponding Author | 庄大明 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 庄大明,刘家浚,朱宝亮,等. 离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究[J]. 摩擦学学报,1995,15(4):341-347. |
| APA | 庄大明,刘家浚,朱宝亮,李文治,张绪寿,&杨生荣.(1995).离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究.摩擦学学报,15(4),341-347. |
| MLA | 庄大明,et al."离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦磨损性能研究".摩擦学学报 15.4(1995):341-347. |
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| 离子束增强沉积和磁控溅射硫化钼薄膜的摩擦（2134KB） | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | |||
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