| 二硫化钼粉晶表面氧化机理研究 | |
| Department | 非现建制 |
| 齐尚奎; 冯良波; 高玲; 张平余 | |
| 1995 | |
| Source Publication | 摩擦学学报
 |
| ISSN | 1004-0595 |
| Volume | 15Issue:1Pages:39-44 |
| Abstract | 通常，人们都采用Ar+刻蚀法轰击样品表面以表征其元素的深度分布和价态。这种分析方法的缺点是容易导致大多数化合物被还原而使表面层的真实组成受到破坏。因此，利用具有非破坏性特点的Ｘ射线光电子谱的角度分辩技术，对MoS2粉晶表面几个分子层内的原子浓度分布作了深度剖析和元素氧化状态的表征，以考察其氧化反应机理。结果表明，MoS2表面氧化过程很复杂，Mo4+经由中间化合态Mo5+氧化生成Mo6+，Mo5+的3d 5/2电子结合能随Mo6+/Mo4+之比值(即氧化程度)不同而变化；MoS2的初始氧化发生在表面单分子层，硫原子流失在表面形成了很多活性反应中心，吸附在表面的氧首先在活性点完成氧化反应生成MoO3；MoS2的表面氧化反应由表及里逐步完成，内层的氧原子比表层的多，可见全部完成按化学计量比的氧化反应要有一个过程。研究结果为深入认识MoS2表面氧化状态和过程提供了科学依据。 |
| Keyword | 二硫化铝粉晶 表面氧化 中间化合物 活性反应中心 氧化反应机理 Mos2 Powdered Crystal Surface Oxidation Transient State Compound Activation Center Oxidation Reaction Mechanism |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/7366 |
| Collection | 非现建制 |
| Corresponding Author | 齐尚奎 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 齐尚奎,冯良波,高玲,等. 二硫化钼粉晶表面氧化机理研究[J]. 摩擦学学报,1995,15(1):39-44. |
| APA | 齐尚奎,冯良波,高玲,&张平余.(1995).二硫化钼粉晶表面氧化机理研究.摩擦学学报,15(1),39-44. |
| MLA | 齐尚奎,et al."二硫化钼粉晶表面氧化机理研究".摩擦学学报 15.1(1995):39-44. |
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| 二硫化钼粉晶表面氧化机理研究_齐尚奎.p（351KB） | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | |||
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