| 工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响 | |
| Department | 非现建制 |
| 张平余; 刘洪; 丛秋滋; 张绪寿; 王秀娥; 顾则鸣 | |
| 1991 | |
| Source Publication | 固体润滑
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| ISSN | 1004-0595 |
| Volume | 11Issue:1Pages:51-62 |
| Abstract | 本文考察了工艺参数对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)TiN镀层性能的影响, 并且研究了镀层的摩擦学性能与其物理机械性能及结晶学特征之间的关系。结果表明, 当N/H比为1、Ti/N比为21、沉积温度为400 ℃和离化电压为1500 V时, 镀层具有较好的机械性能及耐磨性能。X—射线衍射分析表明,在本试验条件下所获镀层均为(200)面择优取向。作者指出, 要制取理想的TiN镀层, 离化电压应不低于1500 V, 沉积温度必须高于300 ℃。 |
| Keyword | 等离子体增强化学气相沉积 Tin镀层 物理机械性能 摩擦学性能 晶体学特征 沉积参数 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (Pecvd) Tin coaTing Physic-mechanical Properties Tribological Characteristic Crystallinity Deposition Parameters |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/6356 |
| Collection | 非现建制 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 张平余,刘洪,丛秋滋,等. 工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响[J]. 固体润滑,1991,11(1):51-62. |
| APA | 张平余,刘洪,丛秋滋,张绪寿,王秀娥,&顾则鸣.(1991).工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响.固体润滑,11(1),51-62. |
| MLA | 张平余,et al."工艺参数对PECVD TiN镀层性能的影响".固体润滑 11.1(1991):51-62. |
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| 工艺参数对PECVDTiN镀层性能的影响（337KB） | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | |||
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