| 用硫醇在Ni(100)面上的分解和脱附 | |
| Department | 非现建制 |
| 沈师孔; John L. Gland | |
| 1989 | |
| Source Publication | 分子催化
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| ISSN | 1001-3555 |
| Volume | 3Issue:2Pages:81-88 |
| Abstract | 用程序升温脱附(TPD)和俄歇电子能谱(AES)在80～773 K范围内研究了甲硫醉在Ni(100)面上的脱附和分解. 结果表明: 当甲硫醇暴露度≤3 L时(1L=1.33×104Pa.S), 甲硫醇在表面分解的脱附产物为氢和甲烷; 甲硫醇暴露度≤4 L时, 除有表面反应生成的氢和甲烷脱附外还伴随有甲硫醇的脱附. AES测量表明, 由甲硫酸分解产生的硫原子被强吸附在Ni(100)面上, 并对Ni(100)面起化学改性的作用. 在甲硫醇暴露度为0.5～3 L范围内, 滞留在表面的强吸附硫量随甲硫醇的暴露度成正比增加. 当甲硫醇暴露度等于10 L时, 强吸附硫量接近饱和值. 表面硫的存在对甲硫醇在Ni(100)面上的反应和吸附性能有明显的影响, 硫化学改性的主要作用是阻塞了Ni(100)面上的四重穴中心, 降低了Ni(100)面对C-H键、C-S键、和S-H键的裂解活性. |
| Subject Area | 物理化学 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/6233 |
| Collection | 非现建制 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 沈师孔,John L. Gland. 用硫醇在Ni(100)面上的分解和脱附[J]. 分子催化,1989,3(2):81-88. |
| APA | 沈师孔,&John L. Gland.(1989).用硫醇在Ni(100)面上的分解和脱附.分子催化,3(2),81-88. |
| MLA | 沈师孔,et al."用硫醇在Ni(100)面上的分解和脱附".分子催化 3.2(1989):81-88. |
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| 用硫醇在Ni_100_面上的分解和脱附_（484KB） | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | |||
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