| 离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响 | |
| Department | 固体润滑国家重点实验室 |
梁爱民 ; 徐洮; 王立平; 林义民; 孙蓉
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| 2005 | |
| Source Publication | 材料科学与工程学报
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| ISSN | 1673-2812 |
| Volume | 23Issue:4Pages:534-536 |
| Abstract | 采用低能离子束辅助沉积技术在Si片上制备了TiN 纳米薄膜。考察了离子束流密度和基底温度对薄膜性能的影响。研究表明: 随着离子束流密度的增大, TiN 薄膜的纳米硬度上升, 膜基结合力变化不大, 薄膜的耐磨性获得了很大改善; 制膜时的基底温度升高, 薄膜的硬度也会上升, 但膜基结合力下降, 摩擦系数增大, 薄膜的耐磨性下降。 |
| Keyword | Tin薄膜 离子束辅助沉积 结合强度 纳米硬度 摩擦学性能 Tin Film Ion Beam Aided depositIon Bonding Strength Hardness Tribological Properties |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Funding Organization | 国家自然科学基金资助项目(50323007;50172052) |
| Indexed By | CSCD |
| Language | 中文 |
| Funding Project | 先进固体润滑膜组 |
| Citation statistics | |
| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/5271 |
| Collection | 固体润滑国家重点实验室（LSL） |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 梁爱民,徐洮,王立平,等. 离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响[J]. 材料科学与工程学报,2005,23(4):534-536. |
| APA | 梁爱民,徐洮,王立平,林义民,&孙蓉.(2005).离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响.材料科学与工程学报,23(4),534-536. |
| MLA | 梁爱民,et al."离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响".材料科学与工程学报 23.4(2005):534-536. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 2005-534-536.PDF（154KB） | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | |||
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