偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响 | |
Department | 固体润滑国家重点实验室(LSL) |
康建1,2; 隋旭东2,3; 杨淑燕1,2; 周海斌2,3; 郝俊英2,3; 万勇1,2; 刘维民2 | |
The second department | 润滑与防护薄膜课题组 |
2023 | |
Source Publication | 摩擦学学报 |
Volume | 43Issue:10Pages:1118-1127 |
If | 1.34 |
Language | 中文 |
compositor | 第二作者单位 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/30475 |
Collection | 固体润滑国家重点实验室(LSL) |
Corresponding Author | 隋旭东; 万勇 |
Affiliation | 1.青岛理工大学 机械与汽车工程学院, 山东 青岛 266033 2.中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室, 甘肃 兰州 730000 3.青岛市资源化学与新材料研究中心, 山东 青岛 266000 |
Corresponding Author Affilication | Lanzhou Institute of Chemical Physics,Chinese Academy of Sciences |
Recommended Citation GB/T 7714 | 康建,隋旭东,杨淑燕,等. 偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响[J]. 摩擦学学报,2023,43(10):1118-1127. |
APA | 康建.,隋旭东.,杨淑燕.,周海斌.,郝俊英.,...&刘维民.(2023).偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响.摩擦学学报,43(10),1118-1127. |
MLA | 康建,et al."偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层结构及性能的影响".摩擦学学报 43.10(2023):1118-1127. |
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偏压对高功率脉冲磁控溅射法沉积MoN涂层(5561KB) | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text |
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