LICP OpenIR  > 固体润滑国家重点实验室(LSL)
Ni/Ti2AlC复合材料高温摩擦与氧化行为研究
Alternative Title
高强
Thesis Advisor王文珍
2021-05-21
Degree Grantor中国科学院大学
Place of Conferral北京
Degree Name工学硕士
Degree Discipline材料学
KeywordNi基复合材料 Ti2AlC 摩擦与磨损 氧化性能 高温
Abstract随着现代工业的发展,航空航天、能源化工等领域对Ni基高温合金及其复合材料的抗磨损、耐氧化等性能提出了更高的要求,针对这一迫切需求,采用不同配比的Ni与Ti2AlC复配烧结制备碳化物原位增强的Ni基复合材料(Ni/10mol%Ti2AlC、Ni/50mol%Ti2AlC和Ni/64mol%Ti2AlC),并研究复合材料的显微组织、力学性能、宽温域摩擦磨损和高温氧化行为,探讨磨损表面物相、氧化层组成和结构等,阐明复合材料的磨损机制和高温氧化动力学特征。主要研究结果如下: (1)Ni/10mol%Ti2AlC复合材料主要由Ni基固溶体、TiCx、Ni3Al和Al2O3构成,Ni/50mol%Ti2AlC和Ni/64mol%Ti2AlC复合材料主要包含Ni2TiAl、TiCx、Ti3NiAl2C 和少量Al2O3。由于原位碳化物的增强作用,复合材料的硬度随着Ti2AlC含量的升高显著提高,但大量脆性碳化物的形成导致材料抗压强度下降。 (2)室温和400℃下,三种复合材料的磨损率随着Ti2AlC含量的升高而下降,最低达到Ni/64mol%Ti2AlC的5.7×10-6 mm3N-1m-1,这主要归结于复合材料硬度的显著提升。800 ℃下复合材料均表现出良好的耐磨特性,Ni/50mol%Ti2AlC磨损率最低。随着摩擦测试温度的升高,Ni/10mol%Ti2AlC和Ni/50mol%Ti2AlC复合材料的磨损率逐渐减小,而Ni/64mol%Ti2AlC复合材料磨损率逐渐变大;800 ℃下,在氧化和摩擦的共同作用下,磨损表面形成了金属氧化物和双金属氧化物,它们对减摩抗磨起到了重要作用,三种复合材料磨损率均低于1×10-5 mm3N-1m-1,宽温域内,三种复合材料中,Ni/64mol%Ti2AlC复合材料表现出最好的耐磨性。 (3)高温下三种复合材料的氧化动力学特征表现出抛物线和抛物线-线性规律;三种复合材料从表面到基底的氧化层结构均可以分为三个亚层(I、II和III层)。对于Ni/10mol%Ti2AlC材料,I层由连续分布的NiO和弥散分布在表面的TiO2和NiTiO3构成,II层是混合氧化层,III层是氧的脆化合金层。Ni/50mol%Ti2AlC和Ni/64mol%Ti2AlC的氧化层结构类似,I层主要由TiO2构成,II层主要由Al2O3构成,III层为氧的脆化合金层。三种复合材料中,Ni/10mol%Ti2AlC表现出最优的抗氧化性。
Other Abstract
Pages72
Language中文
Document Type学位论文
Identifierhttp://ir.licp.cn/handle/362003/29113
Collection固体润滑国家重点实验室(LSL)
Affiliation1.中国科学院兰州化学物理研究所;
2.中国科学院大学
Recommended Citation
GB/T 7714
高强. Ni/Ti2AlC复合材料高温摩擦与氧化行为研究[D]. 北京. 中国科学院大学,2021.
Files in This Item:
File Name/Size DocType Version Access License
202142高强.pdf(7086KB)学位论文 开放获取CC BY-NC-SAView Application Full Text
Related Services
Recommend this item
Bookmark
Usage statistics
Export to Endnote
Google Scholar
Similar articles in Google Scholar
[高强]'s Articles
Baidu academic
Similar articles in Baidu academic
[高强]'s Articles
Bing Scholar
Similar articles in Bing Scholar
[高强]'s Articles
Terms of Use
No data!
Social Bookmark/Share
File name: 202142高强.pdf
Format: Adobe PDF
All comments (0)
No comment.
 

Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.