两种杂环有机物的分子结构与其在离子液体中缓蚀、减摩抗磨性能的构效关系研究 | |
Department | 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
李毅1,2; 张松伟1,3; 丁奇1,3; 胡丽天1 | |
The second department | 固体润滑国家重点实验室;青岛研发中心/青岛市资源化学与新材料研究中心 |
2016 | |
Source Publication | 摩擦学学报 |
ISSN | 1004-0595 |
Volume | 36Issue:6Pages:726-735 |
Abstract | 本文作者通过电化学和摩擦学测试手段, 对比考察了苯并三氮唑(BTA)和糖精(SAC)两种杂环有机物在[HMIM][Cl]离子液体体系中对铜锡合金的缓蚀性能和减摩抗磨性能. 然后, 利用扫描电子显微镜对铜锡合金表面的腐蚀形貌和磨损形貌进行了分析表征. 结果表明: BTA能够吸附在铜锡合金表面形成一层致密的聚合物保护膜,阻止Cl-对金属表面的进攻, 降低离子液体的腐蚀作用, 有效地抑制Cl-引发的孔蚀现象; 同时, BTA还进一步提高了基础油的减摩抗磨效果. 在铜锡合金表面, SAC与离子液体存在竞争腐蚀作用, 低浓度时, 以离子液体中Cl-的孔蚀为主, 高浓度时, 以均匀腐蚀为主; 同时, 由于促进腐蚀作用的存在, SAC的引入会延长磨合期, 加剧磨损. 对[HMIM][Cl]离子液体体系而言, 杂环分子BTA是一种兼具优异缓蚀性能和良好减摩抗磨性能的添加剂; 杂环分子SAC作为添加剂, 则不具有缓蚀和减摩抗磨作用. |
Keyword | 杂环分子 离子液体 缓蚀性能 减摩抗磨性能 构效关系 Heterocyclic Molecules Ionic Liquids Corrosion Inhibiting Properties Friction-reduction And Anti-wear Performance Structure-function Relationship |
Subject Area | 材料科学与物理化学 |
DOI | 10.16078/j.tribology.2016.06.009 |
Funding Organization | 国家自然科学基金项目(51575506;51505462);青岛市应用基础研究计划: 青年专项(14-2-4-85-JCH) |
Indexed By | EI&CSCD |
If | 0.9261(CSCD-JCR) |
Language | 中文 |
Funding Project | 特种油脂和密封材料组 |
compositor | 第一作者单位 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/22798 |
Collection | 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 固体润滑国家重点实验室(LSL) 青岛研发中心/青岛市资源化学与新材料研究中心 |
Corresponding Author | 张松伟; 胡丽天 |
Affiliation | 1..中国科学院兰州化学物理研究所 固体润滑国家重点实验室,甘肃 兰州 730000 2.中国科学院大学, 北京 100049 3.青岛市资源化学与新材料研究中心,山东 青岛 266071 |
Corresponding Author Affilication | Lanzhou Institute of Chemical Physics,Chinese Academy of Sciences |
Recommended Citation GB/T 7714 | 李毅,张松伟,丁奇,等. 两种杂环有机物的分子结构与其在离子液体中缓蚀、减摩抗磨性能的构效关系研究[J]. 摩擦学学报,2016,36(6):726-735. |
APA | 李毅,张松伟,丁奇,&胡丽天.(2016).两种杂环有机物的分子结构与其在离子液体中缓蚀、减摩抗磨性能的构效关系研究.摩擦学学报,36(6),726-735. |
MLA | 李毅,et al."两种杂环有机物的分子结构与其在离子液体中缓蚀、减摩抗磨性能的构效关系研究".摩擦学学报 36.6(2016):726-735. |
Files in This Item: | ||||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
create_pdf.pdf(24336KB) | 期刊论文 | 作者接受稿 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment