阳极场辅磁控溅射镀膜装置 | |
张斌1; 张俊彦1; 高凯雄1; 强力1; 王健2 | |
2016-04-13 | |
Rights Holder | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
Date Available | 2016-04-13 |
Country | 中国 |
Abstract | 本实用新型属于物理气相沉积领域,公开了一种阳极场辅磁控溅射镀膜装置,该装置包括真空腔体、工件盘和至少两个由电源Ⅰ供电的磁控溅射靶,在相邻的磁控溅射靶之间设有由电源Ⅱ供电的水冷阳极,在真空腔体内形成闭环结构。本实用新型将等高的水冷阳极和磁控溅射靶复合,增强了离化率的同时提高了腔体等离子体均匀性。 |
Subject Area | 材料科学与物理化学 |
Department | 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
The second department | 固体润滑国家重点实验室 |
Application Date | 2015-10-27 |
Patent Number | 201520836093.1 |
Language | 中文 |
Status | 授权 |
Application Number | CN205152320U |
Patent Agent | 方晓佳 |
Document Type | 专利 |
Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/21666 |
Collection | 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 固体润滑国家重点实验室(LSL) |
Affiliation | 1.中国科学院兰州化学物理研究所 2.兰州理工大学石油化工学院 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 张斌,张俊彦,高凯雄,等. 阳极场辅磁控溅射镀膜装置. 201520836093.1[P]. 2016-04-13. |
Files in This Item: | ||||||
File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
2015208360931.pdf(405KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text |
Items in the repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.
Edit Comment