| 具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置 | |
张斌1 ; 张俊彦1; 高凯雄1; 强力1; 王健2
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| 2016-04-13 | |
| Rights Holder | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
| Date Available | 2016-04-13 |
| Country | 中国 |
| Abstract | 本实用新型属于物理气相沉积领域，涉及一种具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置。该装置包括由偏压电源供电的工件盘、与真空泵组相连的真空腔体，真空腔体内设有不少于2个的由电源Ⅰ供电的磁控溅射靶，相邻的磁控溅射靶之间设有由电源Ⅱ供电的高功率脉冲离子源，在真空腔体内形成闭环结构。本实用新型将高功率脉冲离子源同磁控溅射相复合，消除了高功率脉冲电源作为磁控溅射电源时产生的离子回流现象，保证了磁控溅射所需的高离化密度，高功率脉冲离子源提高了薄膜的沉积速率。 |
| Subject Area | 材料科学与物理化学 |
| Department | 先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| The second department | 固体润滑国家重点实验室 |
| Application Date | 2015-10-27 |
| Patent Number | 201520840239.X |
| Language | 中文 |
| Status | 授权 |
| Application Number | CN205152323U |
| Patent Agent | 方晓佳 |
| Document Type | 专利 |
| Identifier | http://ir.licp.cn/handle/362003/21665 |
| Collection | 中国科学院材料磨损与防护重点实验室/先进润滑与防护材料研究发展中心 固体润滑国家重点实验室（LSL） |
| Affiliation | 1.中国科学院兰州化学物理研究所 2.兰州理工大学石油化工学院 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 张斌,张俊彦,高凯雄,等. 具高功率脉冲离子源的磁控溅射装置. 201520840239.X[P]. 2016-04-13. |
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| File Name/Size | DocType | Version | Access | License | ||
| 201520840239X.pdf（405KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | View Application Full Text | ||
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